В период с 25.09 по 27.09.2018 прошла очередная выставка Label Expo 2018
Компания GEW разработала новую систему УФ полимеризации, которая сочетает в себе увеличенную мощность и компактный размер. Е4С унаследовала от Е2С компактный корпус, что позволяет устанавливать ее на различные типы машин. Адаптивная, лёгкая в управлении и безопасная для широкого спектра теплочувствительных материалов система работает тихо и с минимальными требованиями к воздуху. Рефлекторы в Е4С настроены таким образом, чтобы максимально увеличить мощность при обработке. Охлаждаемые водой рефлекторы поддерживают высочайший уровень УФ-излучения, при этом воздействие тепла на материал остаётся минимальным. Система доступна в моделях с шириной до 130 см (51 дюйм) и способна выдавать мощность до 200 Вт/см, что на 40% выше, чем у Е2С. Система Е4С приспособлена также к работе со светодиодными лампами, имеет гибридный корпус с возможностью установки как кассет LW2 LED, так и Е4С для дуговых ламп. Система доступна с опцией многоточечного УФ-контроля mUVm. Кроме того, Е2С можно модернизировать до Е4С на всех машинах, на которых они установлены. Совместима с системами обработки инертной средой, лампами с добавками железа или галлия, а также может быть настроена в соответствии с требованиями клиента. Дополнительную информацию можно получить в отделе продаж по тел. (495) 626-22-80 |
