Новый высокоэффективный рефлектор от компании GEW, позволяющий улучшить регулирование теплообмена и сэкономить затраты

Компания GEW объявила о запуске в работу С3, рефлектора с новым дизайном для всего спектра систем УФ-отверждения. Основанный на системе выдвижных кассет, которые просто извлекаются из ламповой камеры, сменный картридж с рефлектором третьего поколения был разработан как замена существующей системе рефлекторов “XC” (extrem cure), используемой для камер VCP и eCP.
Так же как рефлектор типа XC, C3 фокусирует УФ-излучение, чтобы максимизировать УФ-энергию. Оба профиля рефлектора были разработаны с учетом отслеживания траектории лучей, компьютеризированной программы моделирования, чтобы воспроизвести эффект работы рефлекторов различной геометрии и максимизировать количество УФ-энергии, которая достигает поверхности краски. Это позволяет рефлекторам компании GEW быть на 25-30% более эффективными, чем другие. Однако, благодаря дополнительной исследовательской работе рефлектор С3 также обладает рядом преимуществ над своими предшественниками, особенно в области регулирования теплообмена. Это было самым главным шагом вперед к его универсальности и возможности использования с различными типами материалов.
На базе рефлектора XC было проведено три ключевых усовершенствования дизайна. В первую очередь, рефлектор теперь изготавливается из специально разработанного многослойного покрытия в противоположность к полированному алюминиевому, который использовался ранее. Это позволяет рефлектору абсорбировать инфракрасное излучение лампы и удалять его путем воздушного охлаждения задней поверхности рефлектора. УФ-излучение одновременно перенаправляется на поверхность материала. Дихроичное покрытие наносится на сменные вставки рефлектора, а не на отштампованный корпус рефлектора, благодаря чему замена становится дешевле в случае, если они загрязнятся или поцарапаются.
Второе новшество относится к добавлению холодного фильтра, который блокирует ИК-излучение лампы и предотвращает его попадание на запечатываемый материал, при этом пропуская УФ-лучи.
В третьих, в рефлектор С3 была встроена «холодная створка», которая исключает риск повреждения материала от перегрева, когда машина останавливается и створки закрываются. Это решение представляет собой высокоэффективную форму защиты от тепла. Однолопастная створка находится вне зоны прохождения УФ-лучей, таким образом, когда машина останавливается, створка закрывается и при этом она холодная. Слой термоизоляции также покрывает внешнюю часть створки на случай, если лампы были оставлены в режиме ожидания на долгое время. Таким образом, можно избежать проникновения тепла через створку на материал. Когда машина запускается, створка открывается и передвигается в положение, где заново охлаждается потоком воздуха внутри ламповой камеры.
Компания GEW производит энергосберегающие системы УФ-отверждения для всех возможных применений в области печати и послепечатной обработки и поставляет свое оборудование как производителям печатных машин, так и модернизирует уже установленное у клиентов оборудование. С 1991 года компания обеспечила себе хорошую репутацию как лидер рынка систем УФ-полимеризации для полиграфической промышленности. Расположенная недалеко от Лондона, Англия, компания GEW изготавливает всю продукцию на собственном производстве и поставляет запасные части и обеспечивает послепродажный сервис на каждом континенте через свои дополнительные офисы и дистрибьюторскую сеть во всем мире.