Компания Teko начинает продажи фототехнической пленки IBF на территории России

Фототехническая пленка IBF обладает рядом преимуществ:

·Обеспечивает превосходный и стабильный результат
·Идеальна для применения в репрокамере, контактной раме и в лазерном фотонаборном автомате
·Все типы материалов IBF можно использовать в одной и той же проявочной машине с одними и теми же реактивами.

Подробное описание фототехнической пленки IBF

В разработке своих репроматериалов компания IBF идет в ногу с общими тенденциями развития полиграфического производства. Фототехнические материалы IBF в любых проявочных машинах, обеспечивают превосходные и постоянные результаты. Процесс настолько стабилен, что нет необходимости жесткого контроля технологического цикла. Уникальная эмульсионная технология IBF делает эти материалы идеальными для применения в репрокамере, контактной раме и лазерном фотонаборном автомате. Типографии, использующие все типы материалов IBF, могут проявлять их в одной и той же проявочной машине одними и теми же реактивами.

Пленки IBF обеспечивают отличное качество изображения в сочетании с удобством технологии Rapid Access. Это означает высокие значения максимальной оптической плотности и контрастности точек уже на этапе экспонирования в сочетании с низким потреблением химикатов и коротким временем экспонирования и проявления. Вследствие этого материалы IBF имеют широкий диапазон допустимых режимов обработки и совместимы с любой химией системы Rapid Access.

Кроме того, в пленках IBF использована технология Gold Shield, обеспечивающая в широком диапазоне режимов экспонирования минимальное приращение пятна и стабильность результатов. Данные пленки могут использоваться для обычного и стохастического растрирования.

IBF Recording HN - чувствительные к красному свету, высококонтрастные пленки процесса Rapid Access для работы в лазерных экспонирующих устройствах с гелийнеоновым лазером (HeNe 633 нм) и красным лазерным диодом (LDR). Имеет диапазон чувствительности 630 - 670 нм, высокую линейную стабильность засветки, антистатические свойства до и после проявления, высокую максимальную плотность и механическую жесткость основы. HN - пленка с толщиной основы 100 мкм.

Хранение пленки
Держите неэкспонированную, а также отэкспонированную и обработанную пленку в прохладном и сухом месте, желательно при температуре ниже 20oC и при влажности от 30% до 60% RH.

Начало продажи фотопленки IBF - март 2012 г.