CtP системы Esko-Graphics прошли процедуру сертификации компании Fuji для полимерных пластин Fuji Brilla LP-NV. В своем отчете об испытаниях "Fuji Product Information" компания Fuji отмечает, что тонкие негативные микролинии на сплошных плашках в случае экспонирования пластин Brilla LP-NV на CtP системах Esko-Graphics получились лучше (в оригинальном тексте отчета "narrower than our specification of LP-NV") чем определено спецификацией самих пластин в том числе и при экспонировании на CtP системе Fuji Luxel V. Высокое качество экспонирования получено благодаря параметрам оптической системы Esko-Graphics Free Beam, которая обеспечивает однородность и стабильность луча лазера во время экспонирования.
Для экспонирования фотополимерных пластин Fuji Brilla LP-NV требуется энергия 90 микроджоулей на квадратный сантиметр. Для калибровки рекомендуется использовать шкалу Fuji PS Step Guide. Для работы на свету рекомендуется использовать световой фильтр EncapSulite FV30. При интенсивности света 60 люкс время безопасной засветки составляет 6 минут.
